多项选择题
光刻工艺的特点包括（）。
A.决定特征尺寸的关键工艺B.光刻与芯片的价格和性能密切相关C.光刻工艺过程复杂D.复印图像和化学作用相结合的综合性技术
单项选择题 光刻工艺的设备核心是（）。
单项选择题 进行光刻工艺前的清洗步骤是（）。
多项选择题 刻蚀过程中聚合物形成的来源有（）。
