单项选择题
光刻工艺的设备核心是()。
A.掩膜版B.对准和曝光C.光刻机D.光刻胶
单项选择题 进行光刻工艺前的清洗步骤是()。
多项选择题 刻蚀过程中聚合物形成的来源有()。
多项选择题 掺杂后,退火的目的是()。