单项选择题
进行光刻工艺前的清洗步骤是（）。
A.碱溶液清洗B.有机溶液清洗C.HF结尾的清洗工艺D.去离子水冲洗
多项选择题 刻蚀过程中聚合物形成的来源有（）。
多项选择题 掺杂后，退火的目的是（）。
多项选择题 常压的硅外延方法有（）。
