单项选择题 CMOS工艺中，将PMOS和NMOS的栅进行局部互连的材料是（）。

单项选择题 为了实现全局平坦化，在集成电路中，经常采用（）工艺。

单项选择题 以下工艺中，方块电阻是一个重要的参数，一般用于衡量（）工艺中杂质情况。