单项选择题
为了实现全局平坦化,在集成电路中,经常采用()工艺。
A.反刻B.CMPC.SOGD.高温回流
单项选择题 以下工艺中,方块电阻是一个重要的参数,一般用于衡量()工艺中杂质情况。
单项选择题 在制作MOS管时,采用LOCOS工艺容易出现()。
单项选择题 光刻时,将掩模版直接放在晶圆表面,与表面的光刻胶接触,该种光刻方式称为()。