单项选择题
CMOS工艺中,将PMOS和NMOS的栅进行局部互连的材料是()。
A.多晶硅B.金属铝C.金属铜D.铝硅铜合金
单项选择题 为了实现全局平坦化,在集成电路中,经常采用()工艺。
单项选择题 以下工艺中,方块电阻是一个重要的参数,一般用于衡量()工艺中杂质情况。
单项选择题 在制作MOS管时,采用LOCOS工艺容易出现()。