单项选择题 光刻时，将掩模版直接放在晶圆表面，与表面的光刻胶接触，该种光刻方式称为（）。

单项选择题 源漏注入之后，必须进行（）工艺，修复晶格损伤，激活杂质。

单项选择题 未进行掺杂的二氧化硅薄膜，通常简写为（）。