单项选择题
光刻时，将掩模版直接放在晶圆表面，与表面的光刻胶接触，该种光刻方式称为（）。
A.接触式B.接近式C.投影式D.步进式
单项选择题 源漏注入之后，必须进行（）工艺，修复晶格损伤，激活杂质。
单项选择题 未进行掺杂的二氧化硅薄膜，通常简写为（）。
单项选择题 我们利用LOCOS技术制作MOS中的（）。
