判断题
MOS结构指的是金属氧化物半导体结构的简称。
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多项选择题 外延双阱工艺的优点包括（）。
多项选择题 CMOS制作时，常常用作钝化层的材料是（）。
多项选择题 集成电路的制造工艺，需要采用隔离技术，常见的隔离方法有（）。
