多项选择题 集成电路的制造工艺，需要采用隔离技术，常见的隔离方法有（）。

单项选择题 CMOS工艺中，将PMOS和NMOS的栅进行局部互连的材料是（）。

单项选择题 为了实现全局平坦化，在集成电路中，经常采用（）工艺。