单项选择题 CZ法拉不出高阻单晶硅锭的主要原因是（）

多项选择题 IC采用铝互连系统时，下列哪种方法可以避免Al-Si的尖楔现象（）

判断题 在SiO2/Si刻蚀过程中等离子体对硅的刻蚀速率必须控制在非常低的程度，否则SiO2被清除的同时硅也大量被侵蚀。