单项选择题
我们利用LOCOS技术制作MOS中的()。
A.场氧区B.源、漏C.栅D.有源区
单项选择题 显影后,被曝光区域的光刻胶被去除,该种光刻胶称为()。
单项选择题 MOS晶体管的源区、漏区及源、漏之间的沟道区域通常称为()。
单项选择题 氧化层中掺杂了硼杂质,一般称为()。