单项选择题 如果制作栅氧结构，一般采用的方法是（）。

判断题 CMOS电路是通过有源区进行隔离的，属于绝缘介质隔离。

判断题 STI技术相比LOCOS工艺，占地面积更小，而且不会产生鸟嘴效应。