多项选择题
新的平坦化方法有哪几个？（）
A.固结磨料CMP技术B.无磨粒CMP技术C.无应力抛光技术D.电化学机械平坦化技术
多项选择题 光刻工艺对准误差包括（）。
多项选择题 光刻工艺的特点包括（）。
单项选择题 光刻工艺的设备核心是（）。
