单项选择题
如下哪个选项不是半导体器件制备过程中的主要污染物？（）
A.化学物质B.金属离子C.融解的氧气D.细菌
单项选择题 目前制备SOI材料的主流技术有几种？（）
单项选择题 硅烷法制备高纯硅的步骤不包括哪一项？（）
多项选择题 多层陶瓷基板多层化的方法包括（）。
