单项选择题
目前制备SOI材料的主流技术有几种？（）
A.注氧隔离法B.智能剥离法C.键合再减薄技术D.以上都是
单项选择题 硅烷法制备高纯硅的步骤不包括哪一项？（）
多项选择题 多层陶瓷基板多层化的方法包括（）。
单项选择题 厚膜电阻的成分，一是导体颗粒，二是（）。
