多项选择题 根据采用的蚀刻剂不同，蚀刻可分为（）

判断题 光刻技术的原理和印刷的照相制版相似，即在硅基材料上涂覆光刻胶，接着利用分辨率极高的能量束来通过掩模，对光刻胶层进行选择性曝光。经显影后，在光刻胶层上获得和掩模图像相同的极微细的几何图形，再利用刻蚀等方法在工件材料上制造出微型结构。

多项选择题 根据曝光时所用的光源不同，光刻可分为（）