多项选择题
根据采用的蚀刻剂不同,蚀刻可分为()
A.负性光刻B.干法蚀刻C.湿法蚀刻D.正性光刻
判断题 光刻技术的原理和印刷的照相制版相似,即在硅基材料上涂覆光刻胶,接着利用分辨率极高的能量束来通过掩模,对光刻胶层进行选择性曝光。经显影后,在光刻胶层上获得和掩模图像相同的极微细的几何图形,再利用刻蚀等方法在工件材料上制造出微型结构。
多项选择题 根据曝光时所用的光源不同,光刻可分为()
判断题 在印刷电路板的应用中,电路板一般为高分子材料,可先在高分子材料表面PVD蒸镀金属层,而后材料电镀金属导线。