单项选择题
下列哪种工艺会使用到RF？（）
A.电镀B.SOGC.APCVDD.PECVD
单项选择题 在硅片加工中可以接受的膜，以下不具备需要的膜特征（）
单项选择题 蒸发台以下哪项参数对膜厚影响最大（）
单项选择题 P5000设备气态源制备SIN工艺中参与反应的气体是（）
