多项选择题
与小平面源相比,点蒸发源具有()等特点。
A.膜厚分布均匀B.沉积速率较低C.薄膜纯度高D.原料浪费少
多项选择题 PECVD中,等离子体的激励方式有()。
多项选择题 不同压力下,气体的流动状态可以分为()。
单项选择题 欲在一批小尺寸的基板上用小平面源蒸发沉积厚度一致的薄膜,基板相对于蒸发源应该放置在()。