问答题
分析叠层存储电容带来的优点和工艺特点。
优点：叠层存储电容由垂直堆叠的两个并联存储电容构成，电容量是具有同样面积的传统电容的两倍，且存储电容在薄膜晶体管的上面，......
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问答题 试画出9次光刻的多晶硅薄膜晶体管的等效电路图。
问答题 简述采用5次光刻的多晶硅薄膜晶体管的工艺流程的难点与特点。
问答题 简述采用9次光刻的多晶硅薄膜晶体管的工艺流程技术关键。
