问答题
影响显影的主要因素？
曝光时间、前烘的温度和时间、光刻胶的膜厚、显影液的浓度、显影液的温度、显影液的搅动情况
问答题 光刻工艺包括哪些工艺？
问答题 何为分辨率、对比度、IC制造对光刻技术有何要求？
问答题 离子注入工艺需要控制的工艺参数及设备参数有哪些？
