单项选择题
对MIS电容有明显影响的是()。
A.氧化层中固定电荷QfB.界面陷阱电荷QitC.氧化层中可动电荷QmD.氧化层中陷阱电荷Qot
单项选择题 B-T实验主要是用来测量()。
单项选择题 某理想MIS(n型半导体衬底)结构中,若在金属栅上加足够高正电压,则以下()说法错误。
单项选择题 考虑均匀基区硅双极晶体管,T=300K,Nb=5E16cm-3,Nc=2E15cm-3。假定冶金结宽度为0.70um。计算C-B结电压从2V变化到10V时,中性基区宽度的变化()。