判断题 制备多晶硅之前先做一层薄氧，这层薄氧是栅氧。

判断题 制作场氧区的时候，氮化硅的作用是作为LOCOS氧化时的掩蔽层。

判断题 采用双阱工艺，可以实现PMOS和NMOS的独立控制。