问答题
本征硅在室温时电子和空穴迁移分别为1350cm2/V.s和500cm2/V.s,当掺入百万分之一的As后,设杂质全部电离,试计算其电导率比本征硅的电导率增大了多少倍?
问答题 300K时,锗的本征电阻率为47Ω.cm,如电子空求本征锗的载流子浓度分别为3900cm2/V.s和1900cm2/V.s,求本征锗的载流子浓度。
问答题 设硅中施主杂质电离能ΔED=0.04eV,施主杂质浓度ND=1016/cm3,以施主杂质电离90%作为达到强电离的最低标准,试计算保持饱和杂质电离的温度范围。
问答题 设锗中施主杂质的电离能ΔED=0.01eV,在室温下导带底有效状态密度Nc=1.04×1019/cm3,若以施主杂质电离90%作为电离的标准,试计算在室温(T=300K)时保持杂质饱和电离的施主杂质浓度范围。