单项选择题
采用狭缝扫描曝光的复印机，成像系统平面反光镜的数量为（）。
A.应为偶数，只有两次反光镜成像，第一次被倒置的像才能正过来。B.应为奇数，因为光路上成像过程中镜头处发生过一次像倒置，再用奇数的反光镜，保证最后成像是正的。C.可以是奇数，也可以是偶数，由光路决定。
单项选择题 充电电极上电晕丝与屏蔽罩上距离为（）。
单项选择题 三硒化二砷光导体的缺点是（）。
单项选择题 残余电位是评价光导体性能的重要指标，要求是（）。
