单项选择题
记存研究模型的修整，基底部分的高约为解剖部分的（）
A.1／3～1／2 B.1／4～1／2 C.2／3～3／4 D.1／5～1／3 E.1／2～3／4
单项选择题 模型灌注后适宜的脱模时间为（）
单项选择题 模型底座厚薄适宜，一般腭顶和口底，的最薄处应保持（）
单项选择题 遮色瓷厚度应掌握在（）
