判断题
MOS管的制作一般经过阱区制作、有源区光刻、栅氧淀积、栅的淀积和光刻、源漏注入、接触孔光刻、金属淀积及反刻、钝化等工艺。
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判断题 当掩模版上的图形转移到下方薄膜材料上时,必须要考虑到光刻胶的性质(正胶还是负胶)。
判断题 如果掩模版上绝大多数部分是不透光的区域,只有很少一部分透光,这种掩模版称为亮场掩模版。
判断题 掩模版一般是在石英玻璃涂抹上一定形状的铬等材料,形成明暗相间的图形。