单项选择题
光刻加工的工艺过程为：（）
A.①氧化②沉积③曝光④显影⑤还原⑦清洗 B.①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦扩散 C.①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦还原
单项选择题 在进行纳米级测量非导体的零件表面形貌时，常采用的测量仪器为（）。
单项选择题 FMS非常适合（）。
单项选择题 计算机集成制造技术强调（）。
