问答题
制作硅栅具体步骤是什么？
生长缓冲层、沟道区注入、离子注入、CVD工艺淀积多晶硅、多晶硅掺杂、光刻和刻蚀形成多晶硅栅的图形。
问答题 怎样才能使电路正常工作？
问答题 存储器的总体结构包括哪些？
问答题 先进的双极晶体管结构的基本特征是什么？
