问答题
CVD制程具有哪些优缺点？
优点：（1）真空度要求不高，甚至不须真空，如热喷覆。（2）高沉积速率，APCVD可以达到1&mu......
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问答题 电浆辅助VCD系统具有何特色？
问答题 CVD化学气相沉积法反应步骤可区分为几个步骤？
问答题 TiN氮化钛镀膜具有哪些特点？
