问答题
影响膜层厚度均匀性的主要因素有哪些？
蒸发源发射特性，由蒸发源结构、蒸发膜料不同的发射分布特性引起；蒸发源与被镀件的相对位置；被镀件的面形。
问答题 试叙述光电极值法监控膜厚的基本原理。
问答题 什么是单层介质膜层反射率的双重周期性？其周期性的主要特点有哪些？
填空题 热蒸发技术常用的蒸发源有（）和（）。
